タウア・ニン最新VLSIの基礎/YuanTaur/TakH.Ning/宮本恭幸
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商品説明
【内容紹介】
世界的に定評のあるFundamentals of Modern VLSI Devicesの第3版の翻訳書.改訂にあたっては、全体の構成も見直し、学びやすいように順序立てを行っている.さらに、高誘電率 (high−κ) ゲート絶縁膜、メタルゲート技術、ひずみシリコン移動度、MOSFETの非GCAモデリング、短チャネルFinFET、およびSOI上の対称横型バイポーラトランジスタといった話題が新たに追加されている.電子デバイスの開発や研究に携わる技術者、研究者、学生に向けた座右の書.
世界的に定評のあるFundamentals of Modern VLSI Devicesの第3版の翻訳書.改訂にあたっては、全体の構成も見直し、学びやすいように順序立てを行っている.さらに、高誘電率 (high−κ) ゲート絶縁膜、メタルゲート技術、ひずみシリコン移動度、MOSFETの非GCAモデリング、短チャネルFinFET、およびSOI上の対称横型バイポーラトランジスタといった話題が新たに追加されている.電子デバイスの開発や研究に携わる技術者、研究者、学生に向けた座右の書.
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