フォトマスク(中古品)
21,678円(税込)
配送情報
お届け予定日:6月25日〜7月3日
※一部地域・離島につきましては、表示のお届け予定日期間内にお届けできない場合があります。ロットナンバー
623324577
商品説明
(中古品)
フォトマスク
【ブランド名】
田邉 功: author; 竹花洋一: author; 法元盛久: author;
【商品説明】
内容紹介 フォトマスクは半導体のウェーハ上に回路配線を形成するために用いる原版のこと。フォトマスクの製造技術の進歩はハイテク産業の進歩につながる。本書は次世代技術をささえるフォトマスク技術について,開発に携わる著者がわかりやすく,体系的にまとめたものである。半導体関連,ディスプレイ関連,マイクロマシン関連技術に携わる技術者,研究者におすすめ。 著者略歴 (「BOOK著者紹介情報」より) 田邉/功 1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。1961‐81年(株)日立製作所:カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(武蔵工場マスク課長)。1981‐89年HOYA(株):LSI、FPD用フォトマスクの事業化(八王子工場長)。1989‐93年HOYA Micro Mask Inc.:LSI用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発(EVP&CTO) 竹花/洋一 1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻(修士)卒業。1969‐90年(株)日立製作所:計測装置の技術開発、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(デバイス開発センター主任技師)。1990‐99年HOYA(株)八王子工場:LSI、FPD用フォトマスクの技術開発、生産(八王子工場長)。1994‐2001年PMJ実行委員。1999‐2004年HOYA(株)R&Dセンター:次世代マスクの技術開発(担当部長) 法元/盛久 1974年早稲田大学理工学部物理学科卒業。1974‐2000年(株)日立製作所:半導体用フォトマスクの技術開発、生産(マスクセンター長)。1994‐2006年PMJ論文委員(2005‐06年論文委員長)。2000‐02年大日本印刷(株)電子デバイス研究所:半導体用フォトマスクの技術開発(主席研究員)。2002年~現在、大日本印刷(株)研究開発センター:次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発(プロジェクトリーダー)(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
当店では初期不良に限り、商品到着から7日間は返品をお受けいたします。
イメージと違う、必要でなくなった等、お客様都合のキャンセル・返品は一切お受けしておりません。
中古品の場合、基本的に説明書・外箱・ドライバーインストール用のCD-ROMはついておりません。
商品名に「限定」「保証」等の記載がある場合でも特典や保証・ダウンロードコードは付いておりません。
写真は代表画像であり実際にお届けする商品の状態とは異なる場合があります。
中古品の場合は中古の特性上キズ、汚れがある場合があります。
他モールでも併売しておりますので、万が一お品切れの場合はご連絡致します。
ご注文からお届けまで
1.ご注文
ご注文は24時間受け付けております
2.注文確認 ご注文後、注文確認メールを送信します
3.在庫確認
在庫切れの場合はご連絡させて頂きます。
※中古品は受注後に、再メンテナンス、梱包しますのでお届けまで3〜7営業日程度とお考え下さい。
4.入金確認
前払い決済をご選択の場合、ご入金確認後、配送手配を致します。
5.出荷
配送準備が整い次第、出荷致します。配送業者、追跡番号等の詳細をメール送信致します。
6.到着
出荷後、1〜3日後に商品が到着します。
※離島、北海道、九州、沖縄は遅れる場合がございます。予めご了承下さい。
フォトマスク
【ブランド名】
田邉 功: author; 竹花洋一: author; 法元盛久: author;
【商品説明】
内容紹介 フォトマスクは半導体のウェーハ上に回路配線を形成するために用いる原版のこと。フォトマスクの製造技術の進歩はハイテク産業の進歩につながる。本書は次世代技術をささえるフォトマスク技術について,開発に携わる著者がわかりやすく,体系的にまとめたものである。半導体関連,ディスプレイ関連,マイクロマシン関連技術に携わる技術者,研究者におすすめ。 著者略歴 (「BOOK著者紹介情報」より) 田邉/功 1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。1961‐81年(株)日立製作所:カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(武蔵工場マスク課長)。1981‐89年HOYA(株):LSI、FPD用フォトマスクの事業化(八王子工場長)。1989‐93年HOYA Micro Mask Inc.:LSI用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発(EVP&CTO) 竹花/洋一 1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻(修士)卒業。1969‐90年(株)日立製作所:計測装置の技術開発、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(デバイス開発センター主任技師)。1990‐99年HOYA(株)八王子工場:LSI、FPD用フォトマスクの技術開発、生産(八王子工場長)。1994‐2001年PMJ実行委員。1999‐2004年HOYA(株)R&Dセンター:次世代マスクの技術開発(担当部長) 法元/盛久 1974年早稲田大学理工学部物理学科卒業。1974‐2000年(株)日立製作所:半導体用フォトマスクの技術開発、生産(マスクセンター長)。1994‐2006年PMJ論文委員(2005‐06年論文委員長)。2000‐02年大日本印刷(株)電子デバイス研究所:半導体用フォトマスクの技術開発(主席研究員)。2002年~現在、大日本印刷(株)研究開発センター:次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発(プロジェクトリーダー)(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
当店では初期不良に限り、商品到着から7日間は返品をお受けいたします。
イメージと違う、必要でなくなった等、お客様都合のキャンセル・返品は一切お受けしておりません。
中古品の場合、基本的に説明書・外箱・ドライバーインストール用のCD-ROMはついておりません。
商品名に「限定」「保証」等の記載がある場合でも特典や保証・ダウンロードコードは付いておりません。
写真は代表画像であり実際にお届けする商品の状態とは異なる場合があります。
中古品の場合は中古の特性上キズ、汚れがある場合があります。
他モールでも併売しておりますので、万が一お品切れの場合はご連絡致します。
ご注文からお届けまで
1.ご注文
ご注文は24時間受け付けております
2.注文確認 ご注文後、注文確認メールを送信します
3.在庫確認
在庫切れの場合はご連絡させて頂きます。
※中古品は受注後に、再メンテナンス、梱包しますのでお届けまで3〜7営業日程度とお考え下さい。
4.入金確認
前払い決済をご選択の場合、ご入金確認後、配送手配を致します。
5.出荷
配送準備が整い次第、出荷致します。配送業者、追跡番号等の詳細をメール送信致します。
6.到着
出荷後、1〜3日後に商品が到着します。
※離島、北海道、九州、沖縄は遅れる場合がございます。予めご了承下さい。
(中古品)フォトマスク//田邉 功: author; 竹花洋一: author; 法元盛久: author; /内容紹介
フォトマスクは半導体のウェーハ上に回路配線を形成するために用いる原版のこと。フォトマスクの製造技術の進歩はハイテク産業の進歩につながる。本書は次世代技術をささえるフォトマスク技術について,開発に携わる著者がわかりやすく,体系的にまとめたものである。半導体関連,ディスプレイ関連,マイクロマシン関連技術に携わる技術者,研究者におすすめ。
著者略歴 (「BOOK著者紹介情報」より)
田邉/功
1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。1961‐81年(株)日立製作所:カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(武蔵工場マスク課長)。1981‐89年HOYA(株):LSI、FPD用フォトマスクの事業化(八王子工場長)。1989‐93年HOYA Micro Mask Inc.:LSI用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発(EVP&CTO)
竹花/洋一
1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻(修士)卒業。1969‐90年(株)日立製作所:計測装置の技術開発、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(デバイス開発センター主任技師)。1990‐99年HOY
レビュー
商品の評価:
-点(0件)
お店の情報
お店の評価:
-点(0件)
連絡・応対
-
配送スピード
-
梱包
-